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它由紅外引入主體、多口真空室、溫度控制器等組成，能夠在高真空下對樣品進行超高速加熱。
它有許多真空口，可用于多種實驗。 |
| | 通過打開和關閉真空室前門即可取出和取出樣品。 |
| [應用]
- 真空和氣體環(huán)境中樣品的連續(xù)加熱和冷卻控制
- 樣品表面加熱和背面冷卻的快速升降溫測試（可選）
- 加壓氣氛中加熱（可選） |
| | 型號名稱 | GV1 | GV2 | | 紅外燈額定值 | 1千瓦 | 2千瓦 | | 達到最高溫度 | 1300℃ | 1500℃ | | 加熱面積 | ～φ20mm | | 最大升溫速率 | 100～150℃/秒 | | 最大真空度 | 5× 10-5帕 | | 冷卻水量 | 1升/分鐘 | 2升/分鐘 |
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| 它由紅外線導入加熱裝置、小型真空室、測溫樣品部、溫度控制器等組成。 |
| 通過從底部用紅外線照射真空室內(nèi)的樣品，可以清潔地加熱樣品并以超高速升高溫度。
您可以在樣品加熱時從腔室頂部的觀察窗觀察樣品并拍照。 |
| | 型號名稱 | RTA198 | RTA298 | | 紅外燈額定值 | 1千瓦 | 2千瓦 | | 達到最高溫度 | 900～1000℃ | 1000～1300℃ | | 加熱面積 | ～φ20mm | | 最大真空度 | 5×10 -3帕 | 5× 10-5帕 | | 冷卻水量 | 1升/分鐘 | 2升/分鐘 |
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| 它由超高真空紅外感應加熱裝置、超高真空室、質(zhì)譜儀、電源/安全電路單元、真空排氣裝置組成，能夠對樣品產(chǎn)生的痕量氣體進行質(zhì)譜分析達到高溫。 |
| | 紅外感應加熱設備的熱源位于真空室外，不產(chǎn)生氣體，可以進行清潔加熱，可以進行高精度分析。 |
| | 型號名稱 | 病毒2H | | 紅外燈額定值 | 2千瓦 | | 達到最高溫度 | 1500℃ | | 加熱面積 | φ15mm | | 最大真空度 | 5× 10-6帕 | | 交貨目的地 | 京都大學 |
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介紹三種非常適合在磁場中對樣品進行熱處理的模型。
【特點】
- 由于采用紅外線傳輸加熱方式，樣品不受電磁感應影響
- 只能對樣品進行精準加熱，磁體壁不被加熱。 |
| 也可以在真空或氣體氣氛中升高溫度。
可貼附于超導磁體及各種電磁鐵上。 |
| | 當樣品溫度為1000℃時，孔內(nèi)壁溫度低于40℃。 |
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在高真空中進行 X 射線照射時，樣品被加熱至超高溫度。
（紅外線從左上對角方向和右下對角方向照射，X射線從左側和水平方向照射。） |
| | 真空室安裝在XY工作臺、旋轉工作臺和旋轉工作臺上，可以在加熱、保持或冷卻樣品的同時從任何角度分析樣品的晶體結構。 |
| | 型號名稱 | GVL298-2S | | 紅外燈額定值 | 2kW×2 | | 達到最高溫度 | 1500℃ | | 加熱面積 | φ20mm | | 最大真空度 | 5× 10-4帕 |
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| | 送貨目的地：Spring-8 |
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紅外感應加熱裝置與各種分析裝置結合使用。
左圖是X射線光電子能譜儀。 |
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這是將 GVL298 類型安裝到 XPS 的示例。
通過紅外線照射對預真空室內(nèi)的樣品進行加熱，除去樣品中所含的水分和氣體并進行清潔。
樣品在超高真空中通過傳輸桿移動到照片右側的XPS分析室，在那里接受X射線照射并進行表面分析。 |
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